用于干涉光刻的激光器
Skylark 激光器 NX 系列提供 320 和 349 nm 波长 - 提供 < 0.1% RMS 的超低噪声和 < 0.5 MHz 的超窄线宽，同时在紫外范围内保持高达 200 mW 的输出功率。
320 和 349 nm 波长与行业标准 UV 光刻胶兼容，相干长度 > 100 m，是干涉光刻应用的理想激光源。
光刻应用
客户选择Skylark Lasers超稳定、高精度激光源来支持他们在多种干涉光刻应用中的工作：
• 高分辨率周期性结构的纳米制造
• 衍射光栅制作
• 衍射光学元件 (DOE) 制造
• 滤光片制造
• 激光多普勒测振仪
• 纳米光子应用
用于干涉光刻的 CW C-DPSS 单频激光器
320和349 nm的单频连续波激光源提供无与伦比的波长稳定性和窄线宽。Skylark Lasers激光器具有高光谱纯度 (>70 dB)，并具有窄线宽 <1 MHz 的附加优势。激光器可以针对要求更高的应用进行定制，从而在较小的占地面积内达到高输出功率。
干涉光刻的理想激光规格
- 应用程序是什么？
掩模光刻使用一系列光掩模将图案从紫外线源压印到感光材料上，与之相反，干涉光刻 (IL) 使用激光源创建周期性图案。这些图案是通过干涉单个或多个激光束形成的。目前，离子液体在纳米科学中应用最广泛，它能够在纳米尺度上创建周期性结构！IL 还放宽了掩模光刻所施加的昂贵限制。
- 它如何工作？
传统的设置可能涉及劳埃德配置中的单个光束，尽管文献中已经报道了具有多达七个光束的设置。
由于大多数设置使用相同的激光源，因此对稳定性、相干长度和线宽的限制很大，因为无论设置如何，激光输出或环境中的微小干扰都可能是有害的。此外，还需要高功率以减少必要的曝光时间。
- 理想规格
为了满足快速生产的需求，无掩模光刻激光器的特性与光掩模应用中使用的激光器相似。
具有长期功率和波长稳定性以及窄线宽的连续波光源意味着掩模特征的变化较小。
几乎无需维护或中断生产周期的长寿命稳定性对于这两种应用都很重要。
